取消
清空記錄
歷史記錄
清空記錄
歷史記錄
影響砂磨機研磨細度的因素有很多,主要可以從外在原因和內(nèi)在原因兩個方面來說。
一、外在原因
1. 分散劑的添加
在砂磨機中,物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運動的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實現(xiàn)物料顆粒的粒度變小,比表面積增大。在粒度逐漸細化的過程中,顆粒在范德華力、雙電層靜電作用等影響下會重新團聚。因此,可以認為顆粒超細粉碎到一定程度后,伴隨著一系列顆粒微觀上理化特性的質(zhì)變,就會出現(xiàn)一個“粉碎?團聚”的可逆過程。當這正反兩個過程的速度相等時,便達到了粉碎過程中的動態(tài)平衡,則顆粒尺寸達到極限值。此時,進一步延長粉碎時間是徒勞的。因為這時的機械力已不足以解聚團聚體使顆粒進一步破碎,只能用于維持粉碎平衡,并有可能造成更多小顆粒團聚體,于是,所謂的“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象就會出現(xiàn)。從某種程度上說,分散劑的恰當選擇是解決“逆研磨”、“返粗”現(xiàn)象的有效途徑。分散劑可以影響顆粒之間的范德華力、雙電層靜電力、溶劑化膜和吸附層的空間斥力諸作用。
所以,超細研磨過程中分散劑的選擇是一項復雜而且難度大的工程,必須綜合考慮方方面面的因素,只有在保證分散劑對產(chǎn)品性能及體系無任何影響的情況下,選擇合適的分散劑及其用量,減少超細研磨漿料中顆粒之間軟團聚體,使顆粒在體系中分散穩(wěn)定,砂磨機的研磨細度才能實現(xiàn)。
二、內(nèi)在原因
砂磨機本身結(jié)構(gòu)及技術(shù)上的設(shè)計。砂磨機作為一種高效節(jié)能的超細粉碎設(shè)備,近十幾年來得到了迅速發(fā)展。但是不同廠家產(chǎn)的設(shè)備各有不同,同一廠家生產(chǎn)的不用型號的設(shè)備其研磨細度也是不一樣的。
儒佳N系列砂磨機是新一代研磨設(shè)備,采用了全新設(shè)計的離心分離裝置,具有流量大、出料順暢等優(yōu)點。該設(shè)備可使用0.1mm以上的研磨介質(zhì),并采用雙重冷卻模式,有效降低了研磨時產(chǎn)生的熱量,確保了研磨效果和生產(chǎn)效率。
儒佳N系列砂磨機適用于各種陶瓷物料的研磨,以及其他納米級別物料的研磨。該設(shè)備采用了先進的研磨技術(shù),可確保研磨后的物料達到納米級別,滿足各種應(yīng)用的需求。